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等离子清洗设备常用的气体种类这么多?你知道都有哪些气体吗?

氧气:主要清洁物体表面的有机物,产生氧化反应。例如,有机污染物可以有效地去除氧等离子体和污染物应产生二氧化碳、氧化碳和水。

氮气:氮气电离形成的等离子体可以与部分子结构发生关键反应,因此它也是一种活性气体,但与氧气和氢气相比,颗粒相对较重;在清洗和活化的同时,可以达到一定的轰击和蚀刻效果,防止部分金属表面氧化。

CF4:半导体工业中应用广泛,因此,在使用等离子体清洗等新的高科技技术时,应始终注意技术和操作要求,注意结合多种方便因素,实现卓越、协调功能,充分发挥等离子体清洗机的最佳处理效果。

经常使用等离子清洗机,我们可能会遇到许多紧急情况,如产品变色,甚至烧焦,但我们都知道,工业等离子体清洗机产生的等离子体是一种低温等离子体,通常气体温度不超过100℃,那么这种情况在使用时是如何发生的呢?

使用等离子清洗技术处理产品,可以使材料更洁净,更粘附,影响等离子清洗技术的多种因素,需要掌握这些工艺参数,发挥最大的清洗作用,使清洗达到最佳状态。

等离子清洗机广泛用于当代半导体、电路等行业,在元件封装前、芯片键合前可借助等离子清洗处理,从而提升产品的质量。

等离子清洗机所使用的工艺简称干法清洗,是设备利用射频等离子源的激发,使气体激发成为离子态,与清洗材质表面的污染物发生物理和化学反应,通过真空泵将反应产生的污染物排走,达到清洗效果。

等离子清洗机工艺可分为化学清洗、物理清洗及两种混合清洗。针对不同行业的清洗产品可选择相对应的工艺气体进行等离子表面处理。

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